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HONNDA本多電子用于實驗室,一般清洗,半導體,工業超聲波清洗設備||國內銷售

用于實驗室和一般清洗

適用于實驗室和清洗較小的工件,如玻璃、或少量的工件。



WTC-404 / WTC-408 [臺式超聲波清洗機]

四種振蕩模式提供強有力的清洗,減少清洗不均勻。



W-113A [臺式超聲波清洗機]

這種緊湊型清洗機配備了一個三頻多振蕩系統,可選擇三種不同的頻率,具有不同的清洗特性,以提高清洗效果。




W-113MKII [臺式超聲波清洗機]

兩個頻率接近的 "強清洗 "模式可以**頑固的污垢。




WV-231-S1 [臺式超聲波清洗機]
通過降低清洗槽內的壓力(減壓),它還能有效地清洗一般難以清洗的微孔和盲孔內部。 它還能減少清洗時間。
工業清洗機
這些清洗機在工廠中用于清洗零件和其他部件。

可以根據客戶要求制造由振蕩器和換能器單元組成的獨立類型。



WDX系列[超聲波清洗機分離型]

我們獨特的DynaShock Modulation(DM)系統,通過全數字技術實現了從弱到強的清洗,提供*佳的清洗力。




WA系列[超聲波清洗機分離型]

RS485通訊(MODBUS® RTU)可以檢查各種設置和操作條件。 可以設置頻率和輸出功率,并可讀出振蕩狀態,用于預防性維護。



WSC28 / 40 [超聲波清洗機分離型]

FM+AM振蕩確保了槽內超聲波的均勻性,減少了清洗的不規則性,更能抵抗清洗材料、液體類型和深度的負荷波動。



WSC(M)系列[超聲波清洗機分離型]

用于生產線、設備集成和節省空間的緊湊型工業清洗機。



WTC-600-40/WTC-1200-40 [臺式超聲波清洗機]
大型桌面式洗衣機。 除了大容量的洗滌槽和高產量之外,該機器還可以通過語音指導和光電開關進行免提操作;FM+AM調制系統減少了不均勻的洗滌,是一種高效、節能的類型。


半導體行業的清洗機
用于清洗半導體晶圓和掩模的高頻清洗機。

根據不同的目的,可以進行批量清洗和單晶硅清洗。




W-357BM系列[高頻分離型]
分離式清洗機由一個發振器和一個換能器單元組成。
批量式清洗允許一次清洗多個半導體晶圓。

振蕩器單元可根據客戶要求制造。



流動水式超聲波清洗機[高頻點式]
脈沖噴射清洗機在干凈的水流中進行清洗。

適用于單晶片清洗。



流動水式超聲波清洗機[高頻線型]
脈沖噴射清洗機在干凈的水流中進行清洗。

顆粒會被清洗液流水幕所**。



石英振動體清洗機【高頻石英振動體清洗機】
這種清洗機通過在石英振動體上疊加超聲波來清洗晶片和掩模。
它實現了低損害和高清洗度。
聲壓計

將傳感器放在超聲波清洗機的水槽(或流動的水)中,聲壓強度以mV為單位顯示。



HUS-3 [便攜式聲壓計]
是清洗質量控制的必需品,用于監測超聲波清洗機的超聲波輸出。 配有可充電電池,便于攜帶。